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[资源] 对于PolySi残余应力解决途径的专利

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发表于 2017-2-21 16:46:49 | 显示全部楼层 |阅读模式
MEMS工艺中,Polysi常用于结构层,例如在SUMMiT工艺以及MEMSCAP工艺中,其应力通常采用高温退火的方案解决

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